胡正明：微电子学家，美国国籍。祖籍江苏省金坛市城西马干村。年7月出生于中国北京。
年台湾大学电机系毕业，获学士学位。
年赴美国加州大学伯克利分校留学，年获硕士学位。年获美国加州大学伯克利分校博士学位。
胡正明是微电子微型化物理及可靠性物理研究的一位重要开拓者，。
对半导体器件的开发及未来的微型化做出了重大贡献。主要科技成就为：领导研究出。
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